Warum das neue ASML-Trainingszentrum in Phoenix für die US-Chipindustrie so wichtig ist

Die USA reden nicht mehr nur über ihre Chip-Renaissance – sie bauen jetzt auch das nötige Know-how dazu auf. Ein besonders deutliches Signal kommt aus Europa: Der niederländische Lithografie-Spezialist ASML hat in Phoenix, Arizona, sein erstes Trainingszentrum in den Vereinigten Staaten eröffnet.

Hinter diesem Schritt steckt weit mehr als ein neues Gebäude im Wüstenstaat. Es ist ein Baustein in einem langfristigen Plan, die Halbleiterkompetenz wieder stärker auf amerikanischem Boden zu verankern.

Der wahre Engpass ist nicht Beton, sondern Fachkräfte

In den letzten Jahren wurden in den USA reihenweise Mega-Fabs angekündigt. TSMC, Intel, Samsung und andere Konzerne investieren Milliarden in neue Werke, unterstützt von Förderprogrammen wie dem CHIPS and Science Act. Auf dem Papier entsteht so eine beeindruckende Fertigungskapazität. In der Praxis zeigte sich jedoch schnell ein anderer Engpass: Es mangelt an genügend Ingenieurinnen und Ingenieuren, die die extrem komplexen Lithografieanlagen von ASML verstehen und am Laufen halten können.

Bislang mussten viele Unternehmen Spezialisten aus Taiwan, Südkorea oder Europa einfliegen, um neue Anlagen hochzufahren oder anspruchsvolle Wartungsarbeiten durchzuführen. Das kostet Zeit, Geld und macht die US-Standorte von globalen Personalströmen abhängig. Genau hier setzt das neue Trainingszentrum in Phoenix an: Das Know-how soll dorthin verlagert werden, wo die Fabriken stehen – und nicht umgekehrt.

Was im ASML-Trainingszentrum in Phoenix passiert

ASML plant, in Arizona rund 1.000 Fachkräfte pro Jahr zu schulen. Im Fokus stehen die DUV- und EUV-Systeme, also die tief- und extrem-ultraviolette Lithografie, mit denen die feinsten Strukturen moderner Chips belichtet werden. Ausgerüstet ist das Zentrum mit 14 Unterrichtsräumen und einer eigenen Reinraumumgebung, in der die Teilnehmenden an echten ASML-Anlagen arbeiten – nicht nur an Simulationen oder Demostationen.

Dort lernen sie, wie eine EUV-Anlage installiert, kalibriert und im Dauerbetrieb stabil gehalten wird. Sie üben Fehlerdiagnose, präventive Wartung, den Austausch hochsensibler Komponenten und den Umgang mit extrem strengen Reinheitsanforderungen. Wer das Trainingsprogramm durchläuft, ist anschließend in der Lage, direkt vor Ort in Fabs in Arizona, Texas, Idaho und anderen Bundesstaaten eingesetzt zu werden, ohne zuvor lange Trainingsaufenthalte in Europa absolvieren zu müssen.

EUV-Komplexität auf dem Niveau eines Kampfjets

ASML-Manager vergleichen ihre EUV-Systeme gern mit modernen Kampfjets – und das ist keine Übertreibung. In einer einzigen Maschine stecken Hunderttausende Bauteile, komplexe optische Systeme, Vakuumtechnik, Hochleistungslaser und fein abgestimmte Software, die alles synchron hält. Schon kleine Abweichungen können die Ausbeute an funktionierenden Chips deutlich reduzieren.

Clayton Patch, Vizepräsident bei ASML, hat die Komplexität von EUV-Systemen mit der eines F-35-Jets verglichen. Genau wie ein Flugzeug dieser Klasse braucht auch eine EUV-Anlage ein engmaschiges Servicekonzept, permanente Überwachung und hochqualifizierte Teams, die im Zweifel schnell eingreifen können. Je mehr dieses Wissen direkt in den USA aufgebaut wird, desto weniger anfällig ist die lokale Produktion für Reisebeschränkungen, politische Spannungen oder logistische Störungen.

Strategische Bedeutung für die US-Halbleiterkette

Die Eröffnung des Zentrums in Phoenix passt nahtlos zur US-Strategie, die Abhängigkeit von asiatischen Halbleiterhubs zu verringern. Der Aufbau eigener Fabs ist nur die halbe Miete. Ebenso wichtig ist es, in den kritischen Schlüsseltechnologien – und dazu gehört EUV-Lithografie ganz klar – eine eigene Kompetenzbasis zu schaffen. Ohne Menschen, die die Anlagen wirklich beherrschen, bleiben neue Fabriken nur teure Hüllen.

Gleichzeitig bleibt ASML vorsichtig mit seinen allerneuesten Technologien. Die High-NA-EUV-Systeme der nächsten Generation werden vorerst hauptsächlich in den Niederlanden und bei wenigen Frühkunden wie Intel aufgebaut. Diese Plattformen sind noch nicht im breiten Einsatz und werden eng begleitet. Für den aktuellen Bedarf der US-Fabs – von ausgereiften DUV-Linien bis hin zu etablierten EUV-Generationen – bietet Phoenix aber bereits jetzt einen massiven Kompetenzschub.

Konkurrenz im Blick, Dominanz vorerst unangefochten

Zwar experimentieren Start-ups und spezialisierte Firmen weltweit mit alternativen Lithografieverfahren oder neuen Packaging-Ansätzen, doch in der EUV-Lithografie ist ASML de facto konkurrenzlos. Wer an der Spitze der Chipindustrie mitspielen will, kommt an den Maschinen aus den Niederlanden nicht vorbei. Für die USA bedeutet das: Je besser das Land versteht, wartet und optimiert, was in diesen Anlagen passiert, desto robuster wird die eigene technologische Basis.

Das Trainingszentrum in Phoenix steht damit sinnbildlich für den Übergang von der PR-tauglichen Ankündigungsphase hin zur mühsamen, aber entscheidenden Aufbauarbeit im Hintergrund. Hochglanz-Renderings von neuen Fabriken sind schnell produziert. Die eigentliche Zukunft der US-Halbleiterindustrie hängt jedoch an den Menschen, die morgens in die Reinräume gehen, die Anzeigen der ASML-Anlagen lesen – und genau wissen, welche Schraube sie als Nächstes drehen müssen.