Chinas Wettlauf um Halbleiter bekommt neuen Schub: Forscher der Zhejiang-Universität haben die erste eigene Elektronenstrahl-Lithografie-Maschine vorgestellt, genannt Xizhi. 
Das ist bemerkenswert, weil das Land aufgrund der US-Exportbeschränkungen keinen Zugang zu den modernsten High-NA EUV-Scannern von ASML hat.
Die Xizhi ist zwar nicht für die Massenproduktion geeignet, erreicht aber eine beeindruckende Präzision von 0,6 nm – vergleichbar mit der neuesten ASML-Generation. Der große Nachteil: die Geschwindigkeit. Während EUV-Scanner komplette Wafer in einem Durchgang belichten, arbeitet die E-Beam-Maschine Punkt für Punkt, was Stunden dauert. Damit eignet sie sich vor allem für Forschung, Prototypen oder möglicherweise militärische Zwecke, nicht jedoch für große Chipfabriken.
Entscheidend ist weniger die Maschine selbst als die Signalwirkung: Sanktionen, die Chinas Aufstieg bremsen sollten, haben stattdessen massive Investitionen in Eigenentwicklungen ausgelöst. Auch wenn E-Beam EUV und DUV nicht ersetzen wird, verschafft die Xizhi der chinesischen Industrie Know-how und Werkzeuge, um neue Chip-Designs zu erproben und den Rückstand zum Westen zu verkleinern.
China setzt derzeit weiterhin stark auf DUV-Anlagen für die Serienfertigung, doch die Xizhi zeigt, dass der technologische Abstand schrumpft. Die Zukunft der Halbleiterindustrie wird damit weniger von Monopolen geprägt sein und stärker von einem globalen Wettstreit, bei dem jeder Fortschritt die Kräfteverhältnisse neu ordnen kann.