Asml High-Na Euv

EUV hat uns bis 7–2 nm gebracht – aber die Kostenkurve explodiert. Eine US-Startup-Wette namens Substrate setzt auf Röntgenlithografie mit Beschleunigern: Ziel sind 2-nm-Auflösung, niedrigere Waferkosten und weniger Abhängigkeit vom …

China hat mit Xizhi die erste eigene E-Beam-Lithografie vorgestellt – 0,6 nm Präzision, fast wie ASMLs High-NA EUV. Für Massenproduktion zu langsam, aber perfekt für Forschung und Prototypen. Sanktionen sollten …